排样预约
返回列表1、表面光滑平整，尺寸小于4英寸，厚度不超过1.2mm。
2、基底表面必须经过严格清洗（超声清洗：丙酮、酒精、去离子水），去除有机物、灰尘和颗粒，否则会严重影响薄膜的附着力和质量。
3、需能承受一定的热负荷（等离子体加热和本底加热）
1.进样腔室：极限真空：≤8.0x10-9Torr。溅射腔室：极限真空：≤5x10-10 Torr。
2.样品台：4英寸高温样品台，室温~800℃，样品台带旋转功能，转速0-20 rpm可调，样品台带等离子清洗功能。
3.靶基距调节距离100mm。
4.6个2英寸超高真空标准磁性靶枪，每个靶枪配角度调节和气动挡板。
5.电源：500W直流电源，500W固态射频电源，工作频率13.56MHz。
可用于纳米级的单层及多层功能膜-各种金属膜、半导体膜、磁性薄膜、介质膜和氧化物薄膜等的生长。磁控溅射的特点是成膜速率高，基片温度低，膜的粘附性好，可实现大面积镀膜。
