型号规格: | PHI5000VersaProbeII |
仪器地址: | 深圳市南山区西丽清华校区能源环境大楼4楼420室 |
设备负责人: | 耿老师 |
联系电话: | 075526034629 |
注意事项: | 特别提醒:XPS为预约排样测试,网上预约仅为送样时间,收到样品后一般情况会在5-7个工作日出结果,若需现场测试或其他特殊要求请提前两个工作日与工程师进行电话沟通确认,感谢您的配合! 1、放射性、具有磁性的样品、在X光照射下会分解的样品,不能进行测试; 2、样品尺寸:厚度小于5mm;长宽在10mm X10mm以内;需刻蚀和深剖的样品最好是块体; 3、样品用量:粉末样品原则上越细越好,5mg左右即可; 4、样品需提前干燥,保护测试面。 |
技术参数
1、X射线源:单色化Al Kα射线源,可实现样品表面聚焦及扫描(10μm~200μ×200μm);
2、测试:可实现低工作功率(1~100W)、小角度(分辨率≤±1°)、温度可调控(-120℃~500℃)原位测试;
3、Ar离子枪+Ar团簇离子枪:满足金属、陶瓷、有机聚合物、复合材料、半导体材料及器件等样品表面刻蚀、深度剖析;
4、紫外光源UPS:价带、功函数测试(标样优于100 meV);
5、双束中和系统:独立调节电子束(低至1~2eV)和离子束,高质量获谱(PET中O=C-O中C1s FWHM ≤ 0.85eV);
6、Al/Mg双阳极可满足准确的峰位信息辨别需求;